薄膜材料科學

112-2 開課
  • 流水號

    36744

  • 課號

    MSE5065

  • 課程識別碼

    527 U2090

  • 無分班

  • 3 學分
  • 選修

    材料科學與工程學研究所

      選修
    • 材料科學與工程學研究所

  • 周苡嘉
  • 三 3, 4, 5
  • 綜603

  • 2 類加選

  • 修課總人數 20 人

    本校 20 人

  • 無領域專長

  • 中文授課
  • NTU COOL
  • 備註
  • 本校選課狀況

    已選上
    0/20
    外系已選上
    0/0
    剩餘名額
    0
    已登記
    0
  • 課程概述
    薄膜已被廣泛地應用在電子產業。由於電子元件的微縮,奈米尺度電子元件的製程技術與可靠度變得愈來愈重要。這門課會著重在介紹薄膜的製程與科學、薄膜材料的應用與可靠度、薄膜材料反應與一維奈米線的差異。
  • 課程目標
    1. 薄膜沉積 2. 薄膜材料表面能、擴散行為、應力的介紹 3. 薄膜的化學能與表面動態行為 4. 表面動力學過程 5. 交互擴散 6. 矽化物薄膜形成 7. 電遷移機制 1. Thin film deposition 2. Review of surface energy, diffusion, and stress in thin films 3. Chemical potentials and surface kinetic processes 4. Kinetic processes 5. Interdiffusion 6. Silicide formation and thin film reactions 7. Electromigration in VLSI interconnects
  • 課程要求
    1. Introduction to materials science (材料科學導論) 2. Thermodynamics of Materials (材料熱力學)
  • 預期每週課後學習時數
    3小時
  • Office Hour
    *此 Office Hour 需要提前預約
  • 指定閱讀
  • 參考書目
    Kinetics in Nanoscale Materials, King-Ning Tu and Andriy M. Gusak, Wiley Press, 201 ISBN:9780470881408
  • 評量方式
    40%

    期中考

    紙筆測驗

    40%

    期末考

    紙筆測驗

    20%

    口頭報告

    上台口頭報告

  • 針對學生困難提供學生調整方式
  • 課程進度
    2/21第 1 週1. 課程內容介紹、規劃、評分方式 2. 電子薄膜產業介紹
    2/28第 2 週放假日
    3/6第 3 週Thin film deposition
    3/13第 4 週Thin film deposition Surface energies
    3/20第 5 週Surface energies
    3/27第 6 週Atomic diffusion in solids
    4/3第 7 週Atomic diffusion in solids
    4/10第 8 週Stress in thin films
    4/17第 9 週期中紙筆測驗(期中考)
    4/24第 10 週Stress in thin films
    5/1第 11 週Surface kinetic processes
    5/8第 12 週Surface kinetic processes
    5/15第 13 週Interdiffusion
    5/22第 14 週Interdiffusion
    5/29第 15 週期末口頭報告
    6/5第 16 週期末紙筆測驗(期末考)