光電半導體技術

112-2 開課
  • 流水號

    89519

  • 課號

    EE5115

  • 課程識別碼

    921 U7150

  • 無分班

  • 3 學分
  • 選修

    電機工程學研究所 / 光電工程學研究所 / 電子工程學研究所 / 奈米科技學程 / 元件材料與異質整合博士學位學程 / 元件材料與異質整合碩士學位學程

      選修
    • 電機工程學研究所

    • 光電工程學研究所

    • 電子工程學研究所

    • 奈米科技學程

    • 元件材料與異質整合博士學位學程

    • 元件材料與異質整合碩士學位學程

  • 林浩雄
  • 四 2, 3, 4
  • 電二145

  • 1 類加選

  • 修課總人數 70 人

    本校 70 人

  • 無領域專長

  • 中文授課
  • NTU COOL
  • 備註
  • 本校選課狀況

    載入中
  • 課程概述
    本課程介紹以GaAs及InP為主的三五族化合物半導體材料系統的磊晶及製程技術。 一、 光電半導體材料的種類及基本特性 二、 塊材成長技術 三、 真空技術 四、 磊晶技術:分子束磊晶法 五、 磊晶技術:有機金屬化學沈積法 六、磊晶技術:液相磊晶法
  • 課程目標
    瞭解並熟悉三五族化合物半導體的基本晶格結構、能帶性質、光學特性、電學特性、磊晶、製程與量測技術
  • 課程要求
    無預修課程
  • 預期每週課後學習時數
  • Office Hour
  • 指定閱讀
  • 參考書目
    教科書: 上課講義 參考書目: T. Swaminathan, and A. T. Macrander, Materials aspects of GaAs and InP based structures, Prentice Hall, 1991. A. Katz, Indium Phosphide and related materials: Processing, Technology, and Devices, Artech House, 1992. R. E. Willams, GaAs processing technique, 2nd Ed., Artech House, 1990.
  • 評量方式
  • 針對學生困難提供學生調整方式
    調整方式說明
    上課形式

    以錄影輔助

    作業繳交方式

    學生與授課老師協議改以其他形式呈現

    其他

    由師生雙方議定

  • 課程進度